出于特定商業目的和利益，在對實現相應目的、利益最爲有利的要點布置專利，尤其當所申請的多件專利可以達成有效呼應以取得更爲優化的效果時，即形成了專利布局。

專利布局與專利挖掘、專利撰寫是融合關聯的，不能強行割裂。

布局與挖掘、撰寫的關聯

01 布局与挖掘

企業研發人員作爲發明人要完成專利挖掘，在尋找、選擇適當的技術方案形成技術提案的篩選過程中，專利布局的思想應當已經開始發揮作用了。否則會大大降低專利挖掘工作的效率，從而大大增加工作成本。

專利布局與專利挖掘兩者深度相融，不能強行割裂。專利挖掘、專利布局兩者有著共同的目標：確定最適合申請專利的技術提案。相應，從專利挖掘和專利布局的角度對技術方案進行評價、篩選、加工的指導思想也高度重合。

盡管發明人不可能普遍、全面、深入地掌握專利布局能力，發明人完全能夠對專利挖掘和布局具備基礎性、概念性了解，在進行專利挖掘時，盡量力所能及地將布局因素考慮在內，爲企業專利部門接力打好基礎，從而達成最佳效率。

02 布局与撰写

專利布局與專利撰寫的融合關聯更加清楚。專利撰寫中的權利要求布局即是專利布局的向下延伸。

權利要求是專利權的基本單位，即每項權利要求是一項獨立的專利。相應，倘若可以忽略專利申請成本帶來的影響，可以將專利布局視爲權利要求布局。由于專利單一性的要求，可以將符合單一性要求的權利要求歸並在一件專利申請之中。歸並完成之後形成的若幹件專利，即爲完成了布局的專利。

布局的維度和角度

專利布局可以從四個維度進行：成果保護、防止規避、技術演進、鏈條延伸。

其中，成果保護這一維度主要指直接對技術發明成果加以保護，將技術成果中的技術方案納入專利保護範圍。可將成果保護這一維度細分成占據空白、重點強化兩個角度。

另外三個布局維度可以不再細分，也被稱爲布局角度。相應，專利布局可以從五個角度進行。

這五個角度也應用于指導發明人進行專利挖掘、專利代理師進行專利撰寫，體現著專利挖掘、專利撰寫、專利布局相融合的特點。

專利布局的五個角度並不必然相互排斥，即，一項權利要求可能同時從多個角度具有專利布局意義。多個角度的組合有助于爲技術研發、專利布局拓展思想維度。

01 重点强化

重點強化指對技術成果中具有重要意義的關鍵點，可以酌情以較大密度布局多件專利加以保護，甚至可能對同一個技術點嘗試從不同角度申請多件專利，利用冗余強化保護。

高密度冗余保護對代理機構的專業能力要求很高。通常，這類專利申請應盡可能同日做出首次提交。

02 占据空白

占據空白指對技術成果未加以保護的空白點加以專利保護，是對總體布局薄弱方面的加強。

企業申請的任何一件專利均多少帶有占據空白的意義。

一件專利僅保護一個技術點。而一項技術成果由諸多，甚至難以計數的技術點構成。理論上，當諸多專利就一項技術成果形成良好布局時，被專利保護的技術點應在各個維度、層次上較爲均勻地分布于技術成果周遭，而不留下較大的不設防空白區域。通常，技術成果可能在某些方面聚集了更多的關鍵點，確有必要由數量較多的專利大密度設防，但仍不宜留下較大的空白區域。其中，各個維度、層次可以指，例如，産品、方法；方法又可能分爲生産、使用、測試等等；産品或方法又可以從最大全局系統到最小局部細節。

03 防止规避

爲規避專利侵權，行爲人可能嘗試就專利技術方案加以繞道設計，從而使其實施的技術並未落入專利保護範圍。

防止規避，指預先分析他人可能針對我方專利技術方案可能采取用的繞道設計，而針對這些繞道設計先行申請專利，使他人難以規避。

04 技术演进

所有技術將一直發展演進，我方掌握的技術、現有技術，無論是否屬于專利技術，均會如此。因而，申請人、發明人需要特別關注可能的技術演進，並對其中有價值的積極做出專利布局。

針對他方的扼制型專利，通常采用技術演進布局這一方式而獲得。

任何專利申請當中均包含技術進步的因素，從而或多或少帶有技術演進的屬性。技術演進思路下引導的專利挖掘、布局，更強調從取得商業競爭優勢、扼制競爭對手的明確商業目的出發而挖掘、布局專利。專利申請不是以自然技術進步爲主要初衷。因而，會出于布局專利之目的，針對某項技術成果，尤其是可能引起多方激烈競爭、有重大商業前景的技術成果，基于簡單的二次研發改進、微創新、套路性改進迅速産出可以實現專利申請之目的的技術方案，完成技術演進式的專利挖掘布局。從而確保本企業在該領域能夠保有一席之地。

05 链条延伸

鏈條延伸，指將專利布局延伸至該技術産業鏈或商業實現鏈條上下遊各環節。

以鏈條延伸爲指引時，突出地需要發明人、專利部門在互補配合之下，對技術商業實施的方式和侵權原理有良好把握，使兩者實現最優匹配，即，鎖定最適宜認定專利侵權並取得最高額收益的場景，方能在複雜的産業、商業鏈條上有效挖掘出布局專利的最有利點位，發揮出專利布局的最佳效能。

因爲産業或商業鏈條常常具有最高的複雜度，使得按鏈條延伸的指導思想進行專利挖掘、布局最具有産出豐碩成果的潛質，也最具有挑戰性：要求發明人不僅精于本崗位涉及的技術，對完整産業鏈、商業鏈也有所了解；要求專利部門具備開闊的視野和跨部門協調資源的能力。

無論對于有形、無形産品，將産品實現的産業活動之完整過程視爲前後順序相扣的一個個環節，即爲産業鏈。通常，一家企業僅位于鏈條中的某個或某幾個環節。例如，某企業處于某産品生産這一環節，順産業鏈上溯上遊，是所需零部組件及其他材料的生産和供應，向下遊延伸，是對該産品的應用，例如，可能將之裝入不同的上級産品或系統。逐級向上遊、下遊延伸探索，常常會發現，完整的産業鏈存在極多環節，並且上遊、下遊常常存在極多分支。

商業實現鏈條與産業鏈的概念相似。主要不同在于，商業實現鏈條聚焦于某一産品商業價值實現的完整商業活動過程，將這一完整過程視爲前後順序相扣的一個個環節。例如，從産品設計，經由原材料獲得，組織生産，銷售，提供售後服務，至産品回收或銷毀等等，如果更加精細的分析，其中還可能涉及物流倉儲等等。對于某些産品甚至可能對，例如，物流倉儲、回收銷毀環節，存在特殊技術要求，可能存在布局專利的價值和必要性。

當落地到實際著手從事專利挖掘、布局的發明人時，發明人常常僅僅位于、僅僅了解企業內部自己本職的一個小環節。産業鏈在企業內部的延伸和細分而形成的分支鏈條，習慣上不再稱爲産業鏈，可以被稱爲企業內部的産品鏈條或生産流程。例如，在企業內部，當發明人的崗位在某産品之電路系統的一級子系統，則電路系統是他的直接下遊，他之下的二級電路子系統是他的直接上遊。該産品可能還存在並行的結構系統或其他系統，電路系統、結構系統及其他系統必然在某些環節産生交集，從而使這些系統並入一個完整的産品鏈。而按商業鏈條梳理時，發明人的上遊通常可以上溯到，例如，設計研發、物資采購；下遊延伸到，例如，銷售、産品售後服務、産品回收。

無論産業鏈條還是商業鏈條，對專利挖掘、布局均有重大意義。因爲當中某一環節的新技術，其應用、效果均可能向上遊、下遊、旁支傳導，在鏈條內的其他環節，有時可能是並不相鄰的環節産生作用，使針對那些環節設計、布局專利成爲可能，並且可能産生極大價值。當然，不同行業、技術領域差異性極大，表現極爲不同。

發明人依照鏈條延伸的思想進行專利挖掘、布局的探索時，視具體情形，有時可能寸步難行；有時可能延伸出本崗位而止步于企業之內，例如，從完整系統到若幹子系統再到諸多部件、設備，形成有層次的專利布局，或者從完整流程到其中諸多不同工藝環節形成有層次的專利布局；有時可能深入上、下遊不同類型友商的業務範圍，獲得諸多對友商具有牽制力的專利。